聚焦12英寸SiC,16家國內(nèi)廠商“群雄并起”

作者 | 發(fā)布日期 2026 年 01 月 16 日 14:56 | 分類 產(chǎn)業(yè) , 碳化硅SiC

回顧2025年,這是被全球半導體界公認為“12英寸碳化硅(SiC)元年”的一年。在新能源汽車、智能電網(wǎng)、軌道交通與可再生能源等高端應用需求的強力驅(qū)動下,全球?qū)捊麕О雽w產(chǎn)業(yè)迎來關(guān)鍵轉(zhuǎn)折點——12英寸(300mm)碳化硅技術(shù)從實驗室走向產(chǎn)業(yè)化。

如果說此前十年,行業(yè)關(guān)注的焦點是如何從4英寸跨越到6英寸,以及解決8英寸襯底的良率瓶頸,那么2025年的主旋律則是“向下兼容硅基工藝生態(tài)”與“向上突破物理生長極限”。

隨著全球首款12英寸(300mm)SiC外延晶片的技術(shù)首發(fā),以及長晶爐、切割設(shè)備、研磨拋光中試線的全面通線,一個由大尺寸驅(qū)動的成本革命正席回全球功率電子與光電產(chǎn)業(yè)鏈。

1、12英寸碳化硅為何成為“兵家必爭之地”?

在半導體產(chǎn)業(yè),尺寸即效率,尺寸即成本,尺寸即戰(zhàn)略制高點。從6英寸向8英寸、12英寸演進,是摩爾定律在功率器件領(lǐng)域的“另類延續(xù)”。據(jù)行業(yè)測算,相較8英寸產(chǎn)線,12英寸碳化硅襯底可在單位晶圓上提升約2.25倍的有效芯片數(shù)量,同時顯著降低單位芯片制造成本(CoO),并提升制造一致性與良率窗口。

更重要的是,12英寸平臺與主流硅基CMOS產(chǎn)線實現(xiàn)設(shè)備兼容(如光刻機、刻蝕機、清洗機等),為SiC器件的“IDM+代工”融合模式打開通路,是實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)與國產(chǎn)替代的關(guān)鍵前提。

2025年,全球碳化硅產(chǎn)業(yè)正式進入“12英寸技術(shù)驗證與客戶送樣”關(guān)鍵年。而中國在12英寸碳化硅領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了從“點狀突破”到“鏈式協(xié)同”的躍遷,形成了以襯底—外延—設(shè)備—工藝為核心的完整技術(shù)生態(tài)。

圖片來源:集邦化合物半導體制圖

2、襯底環(huán)節(jié)多元突破,技術(shù)迭代加速推進

在襯底領(lǐng)域,國內(nèi)企業(yè)呈現(xiàn)出百花齊放的態(tài)勢,多家廠商圍繞晶體質(zhì)量提升、缺陷密度降低及成本控制展開差異化布局,推動國產(chǎn)襯底在性能與供給能力上的持續(xù)改善。

晶盛機電于2025年5月12日宣布,其子公司浙江晶瑞SuperSiC成功實現(xiàn)12英寸導電型碳化硅(SiC)單晶生長,首顆晶體直徑達309mm且質(zhì)量完好,標志著中國在大尺寸晶體生長領(lǐng)域邁出關(guān)鍵一步。

圖片來源:浙江晶瑞SuperSiC 圖為首顆12英寸導電型碳化硅(SiC)單晶

緊隨其后,浙江晶越半導體于2025年7月23日宣布研制出高品質(zhì)12英寸SiC晶錠,2025年上半年以來,晶越半導體在熱場設(shè)計、籽晶粘接、厚度提升以及缺陷控制方面不斷調(diào)整和優(yōu)化工藝,成功進入12英寸SiC襯底梯隊。

圖片來源:浙江晶越半導體有限公司

合盛硅業(yè)旗下寧波合盛新材料也同步推進,在2025年年內(nèi)成功研發(fā)出12英寸導電型SiC單晶,并同步啟動了針對大尺寸晶體的切割、研磨、拋光等后道工藝的系統(tǒng)性研究,體現(xiàn)了其“材料+工藝”一體化的深度布局思路。

圖片來源:合盛硅業(yè) 左圖為12英寸晶片,右圖為12英寸晶錠

南砂晶圓則在2025年5月的行業(yè)大會上公開亮相了其12英寸導電型SiC襯底產(chǎn)品,成為國內(nèi)首家實現(xiàn)大尺寸襯底“實物化”并公開亮相的企業(yè),引發(fā)了業(yè)界的廣泛關(guān)注。

2025年3月,天岳先進更是攜全系列12英寸碳化硅襯底產(chǎn)品亮相上海,包括12英寸高純半絕緣型碳化硅襯底、12英寸導電P型及12英寸導電N型碳化硅襯底,展現(xiàn)了其全面的技術(shù)儲備和全品類供應能力。

圖片來源:山東天岳先進科技股份有限公司

2025年10月,天成半導體依托自主研發(fā)的12英寸碳化硅長晶設(shè)備成功研制出12英寸高純半絕緣碳化硅單晶材料,12英寸N型碳化硅單晶材料晶體有效厚度突破35mm厚。這一指標對于制造高耐壓、大功率的電力電子器件至關(guān)重要,為下游應用提供了更厚的有源層支撐。

圖片來源:天成半導體

科友半導體在2025年9月初成功制備出12英寸SiC晶錠后,于10月中旬再傳捷報,成功制備12英寸半絕緣碳化硅單晶,實現(xiàn)了雙路線的重大跨越。

圖片來源:科友半導體

環(huán)球晶(GlobalWafers) 2025年11月4日宣布,其12英寸SiC晶圓原型開發(fā)成功,并已正式進入客戶送樣與驗證階段。同時,其方形SiC晶圓技術(shù)也取得了突破性進展,為提升芯片切割利用率提供了創(chuàng)新性的解決方案。

圖片來源:環(huán)球晶官網(wǎng)新聞稿截圖

3、外延打通器件應用關(guān)鍵鏈路

襯底之后,外延是決定器件性能的“最后一公里”。

瀚天天成于2025年12月重磅發(fā)布了全球首款12英寸SiC外延晶片技術(shù)。與此同時,晶盛機電也宣布向瀚天天成交付了12英寸單片式SiC外延設(shè)備,實現(xiàn)了“材料—設(shè)備—工藝”的完美閉環(huán)。

圖片來源:晶盛機電

目前,瀚天天成已啟動12英寸SiC外延晶片的批量供應籌備工作。相關(guān)產(chǎn)品在關(guān)鍵性能指標上表現(xiàn)優(yōu)異,其外延層厚度不均勻性控制在3%以內(nèi),摻雜濃度不均勻性≤8%,2mm×2mm芯片良率大于96%,可充分滿足下游功率器件領(lǐng)域的高可靠性應用需求。

4、SiC設(shè)備反向賦能材料創(chuàng)新

設(shè)備是半導體產(chǎn)業(yè)的“工業(yè)母機”,2025年,中國SiC設(shè)備企業(yè)集體崛起,成為12英寸突破的核心支撐力量。

晶升股份在年底壓軸登場,于2025年12月29日完成12英寸碳化硅單晶爐小批量發(fā)貨,正式交付客戶投入應用。這一里程碑事件標志著國產(chǎn)長晶設(shè)備已從前期的“技術(shù)驗證”階段,正式邁入“量產(chǎn)導入”的實戰(zhàn)階段。

圖片來源:晶升股份

晶馳機電則成功開發(fā)出電阻法12英寸晶體生長設(shè)備,為行業(yè)主流的PVT(物理氣相傳輸法)技術(shù)提供了新的設(shè)備路徑選擇。

圖片來源:晶馳機電

山東力冠攻克了12英寸PVT電阻加熱長晶爐的技術(shù)難關(guān),其設(shè)備在高溫、高真空環(huán)境下的溫度場與氣流場穩(wěn)定性控制能力達到新高度。

在加工設(shè)備方面,#天晶智能 在2025年4月就推出了TJ320型超高速多線切割機,該設(shè)備專為12英寸SiC晶錠切割設(shè)計,有效解決了大尺寸晶錠切割效率低下的瓶頸問題,單臺年產(chǎn)能達20萬片,可滿足500輛新能源汽車的碳化硅電驅(qū)需求。

圖片來源:天晶智能 圖為天晶智能TJ3545多線切割機

西湖儀器與晟光硅研分別在激光剝離與水導激光加工領(lǐng)域取得突破,前者率先實現(xiàn)12英寸襯底激光剝離,后者完成了晶錠小批量加工驗證,為后續(xù)的薄片化、異構(gòu)集成等先進工藝提供了關(guān)鍵的設(shè)備支撐。

圖片來源:西湖儀器

值得一提的是,晶飛半導體利用自研的激光剝離設(shè)備成功實現(xiàn)了12英寸晶圓的剝離,標志著中國在“無損解理”這一高難度工藝環(huán)節(jié)實現(xiàn)了自主可控。

5、12英寸技術(shù)解鎖多元市場新空間

12英寸碳化硅技術(shù)的成熟正在打開新的市場空間。

在新能源汽車領(lǐng)域,大尺寸襯底可顯著提升功率器件的性能與可靠性,契合下游市場對高效節(jié)能的迫切需求。

AR眼鏡領(lǐng)域也成為12英寸SiC的重要增長極。SiC的高折射率可以使其以更薄的鏡片承載更大的視場角,并且一塊12英寸SiC晶圓可加工出8-9副AR眼鏡鏡片,生產(chǎn)效率呈幾何級數(shù)提升。

此外,在AI芯片先進封裝領(lǐng)域,隨著AI模型規(guī)模的指數(shù)級增長,芯片功耗已突破極限。行業(yè)消息透露,頭部企業(yè)計劃在2027年前將CoWoS封裝中的硅中介層替換為碳化硅材料,以提升散熱效率、縮小封裝尺寸。

更值得關(guān)注的是,隨著12英寸半絕緣型襯底的突破,碳化硅在智能電網(wǎng)領(lǐng)域的應用加速推進,國家電網(wǎng)相關(guān)專家表示,電網(wǎng)對碳化硅器件的需求未來或?qū)⒖氨刃履茉雌囶I(lǐng)域,成為產(chǎn)業(yè)發(fā)展的新藍海。

6、結(jié)語

全球范圍內(nèi),12英寸碳化硅領(lǐng)域仍不乏強有力的競爭對手,國際老牌巨頭憑借技術(shù)積淀維持著顯著的競爭優(yōu)勢。

Wolfspeed在2025年9月正式開啟200mm(8英寸)SiC材料的商業(yè)化投放,并已在2026年初成功演示了單晶12英寸SiC晶圓。#Coherent 亦在2025年12月宣布了其300mm SiC平臺的重大進展,目標直指AI數(shù)據(jù)中心的散熱管理。這種策略上的趨同反映出,12英寸SiC的主戰(zhàn)場已從單純的功率模塊延伸至熱管理與光電集成領(lǐng)域。

然而,中國產(chǎn)業(yè)也并非在同一條起跑線上被動追趕。我們擁有全球最活躍的新能源汽車與智能制造應用市場,這為12英寸大尺寸產(chǎn)線提供了寶貴的嘗試空間。同時,國內(nèi)已形成的“材料-裝備-工藝”全鏈條協(xié)同創(chuàng)新機制,使得設(shè)備國產(chǎn)化與工藝改進的響應速度極快。

未來幾年,隨著產(chǎn)業(yè)鏈上下游的持續(xù)磨合與技術(shù)成熟度的不斷提升,國產(chǎn)12英寸SiC不僅將重塑國內(nèi)功率半導體格局,更將在全球高端制造版圖中占據(jù)舉足輕重的一席之地。

(集邦化合物半導體 金水 整理)

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