SEMICON China 2025精彩回顧,第三代半導體閃耀上海!

作者 | 發(fā)布日期 2025 年 09 月 05 日 19:44 | 分類 產(chǎn)業(yè) , 展會

為期三天的Semicon China 2025上海展會已經(jīng)落下帷幕,這場半導體盛會涵蓋芯片設(shè)計、晶圓制造、封裝測試、EDA/IP、半導體設(shè)備及材料等全產(chǎn)業(yè)鏈,吸引了1400多家知名企業(yè)參加。眾多創(chuàng)新產(chǎn)品與技術(shù)競相展示,第三代半導體表現(xiàn)極為亮眼。

全球半導體市場挑戰(zhàn)與機遇并存,第三代半導體領(lǐng)域,受益于全球新能源汽車、光伏儲能、軌道交通等應(yīng)用需求爆發(fā),產(chǎn)業(yè)賽道正持續(xù)升溫,吸引國內(nèi)廠商持續(xù)布局碳化硅、氮化鎵。同時,廠商積極瞄準關(guān)鍵技術(shù)突破與量產(chǎn),并不斷拓寬三代半的應(yīng)用范圍。本次展會上,多家三代半相關(guān)材料、設(shè)備、代工等廠商展出了最新技術(shù)成果,國產(chǎn)“芯”實力進一步凸顯。

天科合達展示光波導型碳化硅襯底等產(chǎn)品

source:集邦化合物半導體拍攝

天科合達主要從事第三代半導體碳化硅單晶襯底及相關(guān)產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,會上,該公司重點展示了8英寸光波導型碳化硅襯底、12英寸熱沉級碳化硅襯底以及液相法P型6英寸襯底三款產(chǎn)品。

其中,光波導型碳化硅襯底厚度為350/500/700μm,透光率>95%(鍍增透膜后),折射率為2.7(450nm波長下),能助力解決傳統(tǒng)AR眼鏡視場角窄、彩虹紋及散熱等難題。今年2月,天科合達與慕德微納簽署投資合同,天科合達將為慕德微納提供滿足AR衍射光波導需求的高質(zhì)量碳化硅襯底產(chǎn)品。

此外,天科合達開發(fā)出適配8-12英寸晶體的單晶生長爐,為12英寸產(chǎn)品的量產(chǎn)提供有力保障。天科合達于今年年初推出的液相法P型6英寸襯底產(chǎn)品,目前正在積極推進客戶端的驗證工作,為規(guī)?;瘧?yīng)用奠定堅實基礎(chǔ)。

天岳先進全面進軍12英寸新時代

source:集邦化合物半導體拍攝

SEMICON China 2025期間,天岳先進重磅發(fā)布全尺寸產(chǎn)品矩陣 —— 6英寸/8英寸/12英寸全系列碳化硅襯底集體亮相,包含12英寸高純半絕緣型碳化硅襯底、12英寸導電P型及12英寸導電N型碳化硅襯底。

稍早之前的亞洲化合物半導體大會上,天岳先進分享了超大尺寸襯底量產(chǎn)經(jīng)驗、液相法制備工藝等前沿成果,與全球產(chǎn)業(yè)鏈上下游共議碳化硅技術(shù)趨勢。

12英寸產(chǎn)品,在產(chǎn)品面積上較8英寸持續(xù)擴大,單片晶圓芯片產(chǎn)出量躍升2.5倍,尺寸擴大有效降低單位成本,是行業(yè)發(fā)展的必然趨勢。天岳先進認為,碳化硅行業(yè)已經(jīng)正式邁入“12英寸時代”,2025年將是大尺寸技術(shù)突破元年。

應(yīng)用領(lǐng)域方面,天岳先進表示碳化硅產(chǎn)品的技術(shù)裂變也將助力新能源汽車、光伏儲能、智能電網(wǎng)、5G基站等多種高壓應(yīng)用場景,催生AR眼鏡、衛(wèi)星通信及低空經(jīng)濟等多重新興領(lǐng)域蓬勃發(fā)展,助力萬物互聯(lián)時代的算力革命。

漢高推出多款前沿產(chǎn)品

source:集邦化合物半導體拍攝

漢高粘合劑電子事業(yè)部攜多款前沿產(chǎn)品與解決方案亮相SEMICON China 2025,聚焦先進封裝、車規(guī)級應(yīng)用及綠色可持續(xù)發(fā)展領(lǐng)域,從而助力半導體行業(yè)在AI時代更好地打造新質(zhì)生產(chǎn)力。

面對大算力芯片對先進封裝材料的要求,漢高推出了一款低應(yīng)力、超低翹曲的液態(tài)壓縮成型封裝材料LOCTITE?ECCOBOND LCM 1000AG-1,適用于晶圓級封裝(WLP)和扇出型晶圓級封裝(FO-WLP),為人工智能時代的“芯”動力提供保障。同時,漢高基于創(chuàng)新技術(shù)的液體模塑底部填充膠能夠通過合并底部填封和包封步驟,成功實現(xiàn)了工藝簡化,有效提升封裝的效率和可靠性。

漢高針對先進制程的芯片推出了應(yīng)用于系統(tǒng)級芯片的毛細底部填充膠,通過優(yōu)化高流變性能,實現(xiàn)了均勻流動性、精準沉積效果與快速填充的平衡,其卓越的噴射穩(wěn)定性和凸點保護功能可有效降低芯片封裝應(yīng)力損傷。此外,該系列產(chǎn)品在復雜的生產(chǎn)環(huán)境中能夠保障可靠性與工藝靈活性,有效幫助客戶提高生產(chǎn)效率,節(jié)約成本。

車規(guī)級領(lǐng)域,漢高用于芯片粘接的LOCTITE?ABLESTIK ABP 6395TC基于專利環(huán)氧化學技術(shù),專為高可靠性、高導熱或?qū)щ娦枨蟮姆庋b場景設(shè)計,適配多種主流封裝形式,可廣泛應(yīng)用于功率器件、汽車電子及工業(yè)控制等領(lǐng)域。LOCTITE?ABLESTIK ABP 8068TH基于無壓銀燒結(jié)技術(shù),其具備的優(yōu)異流變特性確保了點膠穩(wěn)定性與彎曲針頭的兼容性,低應(yīng)力、強附著力以及固化后的高導熱率,使其成為適配高導熱或?qū)щ娦枨蟀雽w封裝的理想選擇。此外,漢高還展示了其基于銀和銅燒結(jié)的有壓燒結(jié)解決方案,以全面的產(chǎn)品組合護航汽車半導體行業(yè)發(fā)展。

Tokyo Electron(TEL)展出創(chuàng)新設(shè)備

source:集邦化合物半導體拍攝

TEL全方位展示了面向FEOL、BEOL和圖案化的設(shè)備組合方案,創(chuàng)新型設(shè)備首次亮相,包括激光玻璃設(shè)備Ulucus?LX與濺射設(shè)備LEXIA?-EX。

與此同時,TEL還對外介紹了自身設(shè)備領(lǐng)域地位以及業(yè)績情況。

TEL是全球唯一一家可以提供半導體圖案化加工中必不可少的四個連續(xù)關(guān)鍵工藝所需設(shè)備的公司,這四個連續(xù)關(guān)鍵工藝分別是,沉積、光刻、刻蝕和清洗;產(chǎn)品陣容豐富,核心產(chǎn)品涂膠顯影、清洗、等離子刻蝕、氣體化學刻蝕、熱處理成膜、批處理沉積、金屬沉積、探針設(shè)備等產(chǎn)品在全球名列前茅;TEL用于EUVL曝光工序的涂膠顯影設(shè)備擁有100%的市場份額。全球設(shè)備出貨數(shù)量第一。

2025財年TEL集團營收預計將達歷史新高的2.4萬億日元,其中AI相關(guān)的銷售額將超過6000億日元,在中國大陸營收占比接近45%;未來,在AI相關(guān)先進設(shè)備的需求帶動下,TEL的營收目標是在2027財年達到集團中長期目標的3萬億日元。

天域半導體展出高品質(zhì)8英寸碳化硅外延晶片

source:集邦化合物半導體拍攝

天域半導體主要從事各類碳化硅外延片的設(shè)計、研發(fā)及制造,產(chǎn)品主要應(yīng)用于電動汽車、光伏、儲能、鐵路等領(lǐng)域。

本次展會,天域半導體展出了高品質(zhì)8英寸碳化硅外延晶片,展示了該公司在碳化硅半導體材料領(lǐng)域的技術(shù)水平和創(chuàng)新實力,以及在市場應(yīng)用等方面的卓越表現(xiàn)。

2024年末,天域半導體遞表港交所,尋求赴港上市。據(jù)悉,此次IPO,擬將所得資金用于擴張產(chǎn)能、提升研發(fā)與創(chuàng)新能力、戰(zhàn)略投資/收購、以及擴展市場等方面。隨著國內(nèi)第三代半導體市場需求的快速增長,天域半導體頻繁受到資本青睞,已經(jīng)完成多輪融資,投資方包括比亞迪、上汽尚頎、海爾資本等。

中機新材主推3款產(chǎn)品

source:集邦化合物半導體拍攝

中機新材專注于高性能研磨拋光材料基礎(chǔ)研發(fā)與應(yīng)用研究,會上展出了3款自主研發(fā)的主推產(chǎn)品——團聚金剛石研磨液、二氧化硅精拋液、金剛石減薄砂輪。

其中,團聚金剛石研磨液采用原料自主研發(fā),選擇優(yōu)質(zhì)金剛石原材料合成球形結(jié)構(gòu)金剛石,用于金剛石液。特殊配方、分散性好、粒度均勻、去除率高、低損傷層。產(chǎn)品研磨速率穩(wěn)定、使用率高、切削速率快、加工表面一致性好。

二氧化硅精拋液,該產(chǎn)品采用高純度硅溶膠為主要原料,氧化硅粒徑分布均勻,懸浮體系穩(wěn)定,分散性好。適用于SiC精拋、藍寶石精拋、陶瓷精拋、鋁合金精拋、不銹鋼精拋的拋光工序。

金剛石減薄砂輪——使用日本住友工藝,可以做到其他金剛石磨料無法達到的表面質(zhì)量;金剛石砂輪硬度高、強度大、研削能力強。主要用于研削硬質(zhì)合金、非金屬材料等硬脆材料,尤其是碳化硅、單晶硅、藍寶石襯底材質(zhì)等。

萬業(yè)企業(yè)旗下凱世通展示全系列集成電路離子注入機產(chǎn)品矩陣

source:集邦化合物半導體拍攝

本屆SEMICON China展會現(xiàn)場,萬業(yè)企業(yè)旗下凱世通帶來了全系列集成電路離子注入機產(chǎn)品矩陣。通過長期的技術(shù)攻關(guān)與量產(chǎn)應(yīng)用,凱世通離子注入機在離子源、光路系統(tǒng)、晶圓傳送、顆粒污染物控制、軟件自動化等關(guān)鍵技術(shù)方面進行了持續(xù)升級迭代,關(guān)鍵性能指標持續(xù)改進,獲得了晶圓廠客戶的廣泛認可。

自2020年首臺訂單突破以來,凱世通累計收獲12英寸集成電路離子注入機設(shè)備訂單近60臺,訂單總金額超14億,其中50%以上為重復訂單,完成產(chǎn)線交付超40臺并實現(xiàn)量產(chǎn),服務(wù)了十余家重點芯片制造企業(yè)與國家工程。

先導科技集團董事長、萬業(yè)企業(yè)董事長兼總裁、凱世通董事長朱世會先生受邀出席大會開幕式,共話凱世通聚焦高端半導體裝備離子注入機的技術(shù)創(chuàng)新與發(fā)展戰(zhàn)略,以及在控股股東先導科技集團的賦能下,萬業(yè)企業(yè)未來業(yè)務(wù)的協(xié)同發(fā)展方向。

朱世會先生表示,先導科技集團歷經(jīng)30年發(fā)展,在材料科技、光電子、微電子、零部件、芯片設(shè)計和軟件算法等多個技術(shù)領(lǐng)域形成全產(chǎn)業(yè)鏈平臺優(yōu)勢,依托不斷深化客戶合作開發(fā)、完善的供應(yīng)鏈體系以及強大的零部件自主研發(fā)能力,將積極賦能萬業(yè)企業(yè)和旗下的凱世通在國產(chǎn)集成電路離子注入機技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)制造,不斷夯實零部件供應(yīng)鏈基礎(chǔ),為國內(nèi)集成電路客戶高質(zhì)量發(fā)展貢獻更多卓越的解決方案。

晶盛機電半導體裝備全鏈布局

source:晶盛

晶盛機電展示了全面升級的大硅片拋光裝備、面向先進制程的薄膜沉積裝備、全系列精密減薄裝備、化合物半導體全系列工藝裝備和高精度量測裝備等解決方案。

以12英寸外延爐為首的薄膜沉積裝備,采用差異化的技術(shù)路線與不斷創(chuàng)新迭代的產(chǎn)品思維,為不同終端客戶提供國產(chǎn)化解決方案,產(chǎn)品指標達國際先進水平;以12英寸減薄拋光機領(lǐng)銜的先進封裝設(shè)備,實現(xiàn)30um超薄晶圓與5mm大翹曲晶圓穩(wěn)定加工,為高集成、低功耗的芯片制造提供全新的工藝路徑

其中,在功率半導體領(lǐng)域,晶盛機電8英寸SiC中束流離子注入機,可實現(xiàn)晶格損傷實時修復與摻雜劑高效激活;8英寸立式SiC氧化爐、激活爐,超高的均勻性控制技術(shù),已實現(xiàn)穩(wěn)定量產(chǎn)。此外,升級后的SiC晶圓量測設(shè)備及SiC晶圓表面激光退火設(shè)備,為碳化硅功率器件的效率提升與成本控制開辟了新路徑。

納設(shè)智能展示8英寸碳化硅外延設(shè)備

source:集邦化合物半導體拍攝

納設(shè)智能主要從事第三代半導體碳化硅、新型光伏材料、納米材料等先進材料領(lǐng)域所需的薄膜沉積設(shè)備等高端設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,該公司專注于工藝指標、耗材成本、維護效率等方面的持續(xù)優(yōu)化改進。

會上,納設(shè)智能展示了8英寸碳化硅外延設(shè)備,該設(shè)備獨創(chuàng)的反應(yīng)腔室設(shè)計配備可獨立控制的多區(qū)進氣系統(tǒng),在厚度均勻性、濃度均勻性、缺陷密度等工藝指標上均達到行業(yè)先進水平。

順應(yīng)市場降本增效的需求,納設(shè)智能8英寸碳化硅外延設(shè)備還做到了低成本易維護,在控制成本的同時提供規(guī)?;a(chǎn)能力。

芯三代展示大規(guī)模量產(chǎn)型碳化硅/氮化鎵外延生長設(shè)備

source:集邦化合物半導體拍攝

芯三代公司聚焦碳化硅、氮化鎵等第三代半導體外延設(shè)備研發(fā)、制造、銷售和服務(wù),未來將擴展多種半導體設(shè)備。

本次展會上,芯三代對外展示了大規(guī)模量產(chǎn)型碳化硅外延生長設(shè)備(垂直氣流SiC-CVD):SICCESS系列單雙腔垂直流設(shè)備,產(chǎn)能大于等于1100片/月(雙腔),通過工藝優(yōu)化可以超過1200片/月,外延規(guī)格為8吋(兼容6吋),多區(qū)控溫,并在CoO成本、長時間多爐數(shù)連續(xù)自動生長控制、低缺陷率等方面具備優(yōu)勢。

此外,芯三代氮化鎵外延生長設(shè)備(GaN-CVD)SiCCESS系列雙腔設(shè)備同樣具備高產(chǎn)能、兼容8吋/6吋特點,同時還具有高外延均勻性、低外延缺陷等特性。

青禾晶元展示C2W&W2W雙模混合鍵合設(shè)備

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本次展會上,青禾晶元展示了其最新發(fā)布的C2W&W2W雙?;旌湘I合設(shè)備:SAB 82CWW系列,可應(yīng)用于存儲器、Micro-LED顯示、CMOS圖像傳感器、光電集成等多個領(lǐng)域。

該設(shè)備采用了全球先進的一體化設(shè)備架構(gòu),將C2W和W2W兩種技術(shù)路線結(jié)合。這不僅提高了設(shè)備的通用性和靈活性,還為客戶提供了更大的選擇空間,滿足了不同應(yīng)用場景的需求。

青禾晶元介紹,SAB 82CWW系列通過鍵合方式創(chuàng)新,最大程度的減少顆粒污染的風險,實現(xiàn)高良率鍵合;可兼容8寸和12寸晶圓;能夠處理厚度最薄至35μm的超薄芯片,同時具備全尺寸兼容性;配備高精度高通量檢測模塊和內(nèi)置算法,實現(xiàn)負反饋偏移補償,確保鍵合精度的穩(wěn)定性和一致性。

山西天成提供6-12吋量產(chǎn)服務(wù)

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山西天成主要展出碳化硅單晶量產(chǎn)過程涉及到的設(shè)備,粉料,籽晶,熱場,工藝等配套產(chǎn)品及服務(wù),可為客戶提供6-12吋導電/半絕緣/光學鏡片的一站式量產(chǎn)服務(wù)。

山西天成業(yè)務(wù)聚焦碳化硅晶片的生產(chǎn)和長晶裝備制造,具備完整的自主研發(fā)能力,從設(shè)備研制、粉料、籽晶、熱場設(shè)計到襯底制備全鏈條自主可控。

該公司現(xiàn)已完成6、8、12英寸碳化硅單晶襯底技術(shù)攻關(guān),并掌握碳化硅生長裝備制造、碳化硅粉料制備,導電型及高純半絕緣碳化硅單晶襯底制備工藝,擁有碳化硅裝備制造、粉料制備、單晶生長、晶片加工等整套生產(chǎn)線。

新微半導體展出氮化鎵功率代工工藝平臺

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作為化合物半導體領(lǐng)域代工企業(yè),新微半導體在本次展會上重點展示了其覆蓋低壓(30V-40V)、中壓(80V-200V)和高壓(650V-900V)的氮化鎵功率代工工藝平臺和解決方案。這些先進的技術(shù)和工藝能力,能夠為客戶提供更高效、更可靠和更節(jié)能的功率代工平臺。

此外,新微半導體還展示了其在3/4吋磷化銦(InP)與4/6吋砷化鎵(GaAs)材料的全系列光電工藝解決方案,進一步彰顯其在化合物半導體制造領(lǐng)域的技術(shù)實力。

稍早之前,新微半導體正式推出650V硅基氮化鎵增強型(E-mode)功率工藝代工平臺,憑借高頻運行效率、超低柵極電荷及低導通電阻等卓越特性,為新一代高速、高效功率器件應(yīng)用提供解決方案,可廣泛應(yīng)用于消費電子、工業(yè)自動化、數(shù)據(jù)中心及新能源汽車等領(lǐng)域。